主要规格及技术指标

技术参数：
1.灵敏度：
低质量数 Li(7): 50 Mcps/ppm；
中质量数 Y(89): 60 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；
(高质量数 Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；
根据用户特殊需求，如激光、核工业、半导体材料等应用，可提供高强灵敏度功能
2.检测限：
低质量数 Be(9): 0.5 ppt；
中质量数 In(115): 0.1 ppt
高质量数 Bi(209): 0.1 ppt
3.氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；
4.双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0 %
5.同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
6.质谱范围：2 – 260 amu；
7.丰度灵敏度
低质量端: 5 x 10-7
高质量端: 1 x 10-7
主要特点：
尺寸非常小的ICP-MS

主要功能及特色

灵敏度非常高的碰撞池-第三代ORS3纯 He 气碰撞池：只用He气就可以消除所有干扰。耐高盐的ICP-MS: HMI技术（TDS>3%）ICP离子源技术：数字控制式谐频ICP发生器有机溶剂进样不熄火！
分析速度快：ISIS-DS技术容易维护和清洗强大的色谱联机功能：
一体化功能强力的软件：MassHunter系统，实现实时QA/QC偏移标示，自动化控制等。

主要附件及配置

自动进样器