主要规格及技术指标

3.1离子束系统参数
3.1.1离子束系统：
(1) 离子源种类：液态Ga离子源；
(2) 交叉点分辨率：优于2.5nm@30kV，1.0pA，采用选边法；
(3) 加速电压：0.5kV - 30 kV；
(4) 束流强度：1pA - 100nA；
(5) 离子源寿命：≥ 2000μAh；
(6) 离子束光阑：15个；
(7) 离子束最小放大倍率：300。
3.2电子束系统参数
3.2.1电子枪类型：高稳定性肖特基热场发射灯丝
3.2.2分辨率：0.6nm @ 15kV；1.0nm @ 1kV，0.9nm @ 1kV（减速模式），采用多边统计法。
3.2.3交叉点工作距离：4－5mm。
3.2.4加速电压：不窄于200V－30kV，以 10V 为步进，连续可调，无需模式更换。
3.2.5着陆电压：20V – 30kV。
3.2.6束流强度：0.8pA-176nA 。
3.2.8电子枪寿命：不低于1年。
3.2.9具备可加热式物镜光阑。
3.2.10 物镜系统：浸没式电磁物镜恒定功率设计，可保障电子枪和离子枪在任何条件下都可以同时开启同时工作，并且能够对磁性材料近距离高分辨观察。
3.2.11 电子光学最小放大倍率：≤20×（显示器放大倍率）

主要功能及特色

用于金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构。高质量定点TEM样品制备。化学和晶体结构三维形态分析。离子束刻蚀、离子束沉积、电子束沉积。高分辨扫描电镜功能可对离子束加工试样进行实时观测。

主要附件及配置

纳米操纵器（1个），气体沉积系统（W，C）,电子束曝光系统，QUANTAX ESPRIT XFlash®7100 能谱仪一套，QUANTAX e-Flash 电子背散射衍射仪一套，Leica EM ICE高压冷冻仪一台，Quorum PP3010冷冻传输制备系统一套，Quorum Q150R S Plus 全自动离子溅射镀膜仪一台，Quorum Q150R E PLUS 蒸碳镀膜仪一台。